光刻胶市场主要被日本、美国等国家的企业所占据。日本的光刻胶技术处于领xian地位，全球五大光刻胶生产商中，有四家来自日本，他们手握全球 70%以上的市场份额。我国在光刻胶领域起步较早，但由于多种原因曾一度落后，近年来我国企业不断加大研发投入，在光刻胶技术上取得了一些突破，部分产品已经通过了量产验证。在半导体芯片制造中，光刻胶是关键材料之一，光固化剂作为光刻胶的核心组成部分，吸收光能后引发化学反应，使光刻胶在曝光区域发生固化，从而实现图案的转移和芯片的制造。
光刻胶作为一种对溶剂残留量要求非常高的物料，在干燥前需充分了解其物理特性，如粒度分布、密度、流动性等，以及化学特性，如热稳定性、是否易与其他物质发生反应等。这些特性将直接影响到干燥过程中的参数设置和设备的选择。例如，如果物料粒度较小且易团聚，可能需要在干燥前进行预处理，如添加分散剂或进行预分散操作，以保证物料在干燥过程中能够均匀受热和干燥。
技术原理与核心优势
龙鑫干燥机采用闭式循环沸腾干燥技术，其核心原理为：
(1) 氮气循环：干燥介质（氮气）在系统内循环使用，避免与外界空气接触。
(2) 流化干燥：物料在气流作用下呈沸腾状态，实现高效传质传热。
(3) 溶剂回收：蒸发的溶剂经冷凝后回收，实现资源循环利用。
与传统干燥技术相比，其优势体现在
(1) 安全性：氧含量≤2%，符合防爆设计要求。
(2) 节能性：能耗降低15%，溶剂回收率≥95%。
(3) 环保性：粉尘排放浓度＜30mg/m3，远低于标准。
工艺创新：设备集成六大创新模块
(1) 多级过滤系统：初效+中效+高效过滤，粉尘残留低。
(2) 智能温控系统：PID算法控制加热功率，温度波动±2℃。
(3) 动态平衡系统：压力传感器实时调节风量，确保系统稳定运行。
(4) 溶剂回收系统：板式冷凝器+溶剂储罐，回收率≥95%。
(5) 在线清洗系统：CIP自动清洗，减少人工干预。
(6) 防爆安全系统：泄爆片+防爆电机，安全等级Ex d IIB T4 Gb。
客户价值与行业认可
(1) 质量提升：产品含湿率≤0.2%，活性成分保留率高。
(2) 成本降低：溶剂回收节约成本，能耗降低15%。
(3) 效率提升：处理量提升，批次稳定性高。
龙鑫干燥正以技术创新为引擎，推动光引发剂产业向高效、安全、环保的方向迈进，为光固化材料行业提供“龙鑫方案”。
